本文へスキップ

半導体 液晶 製造装置 中古装置 SST SRD DNS SEZ NISON CERAUS CVD PVD IMPLA スパッタ 真空ポンプ リファブ オーバーホール タッチパネル ロボット など

TEL. 06-6379-0580

〒533-0032 大阪市東淀川区淡路5−9−5

会社概要COMPANY

会社名
ゼン・オウルズ株式会社 (英文:ZEN OWLS CO)
代表者名
代表取締役 古木善之
本社所在地
〒533-0032
大阪市東淀川区淡路5−9−5
→アクセス
TEL. 06−6379−0580
FAX. 06−6379−0582
四日市事務所
〒510-0075
三重県四日市市安島2−8−7南川ビル2階
資本金
2000万円
設立年月日
1997年 11月7日
従業員数
12名(2013年4月現在)
決算期
8月31日
取引銀行
みずほ銀行、三井住友銀行、泉州池田銀行

沿革

1997年11月
大阪市東淀川区に設立(資本金1000万円)代表取締役に古木善之が就任(設立当初社員5名にて起業)
1997年11月
液晶パネル(LCD2世代)製造用CVD装置メンテナンスサポート会社
1997年12月
液晶パネル(LCD3〜3・5世代)製造用CVD装置立上げサポート開始
1998年4月
真空ロボットメンテナンスサポート開始
1999年1月
半導体ウエハー洗浄装置メンテナンスサポート開始
1999年5月
東京都稲城市に東京事務所開設
1999年9月
液晶パネル(LCD、カラーフィルター)製造用装置エンジニア派遣開始(設置〜製造〜メンテナンスサポート業務一貫)
1999年9月
静岡市に静岡事務所開設
2000年1月
真空ポンプ(クライオポンプ)エンジニア派遣開始
2000年1月
真空ポンプ(クライオポンプ)メンテナンスサポート開始
2002年4月
LCD検査装置用特殊照明、特殊顕微鏡の製造及び販売を開始
2002年11月
液晶パネル製造メーカー工場より、CVD装置用真空排気配管のメンテナンスサポートを受注、サポート開始
2002年12月
上海市浦東新区に上海事務所を開設
2003年4月
液晶パネル(LCD5世代)膜厚検査装置のメンテナンスサポート開始
2003年5月
半導体前工程メーカー工場より、ウエハー洗浄装置のメンテナンスサポートを受注、サポートを開始
2003年5月
液晶パネル用注入装置及び検査装置のセットアップ作業請負
2003年6月
半導体前工程製造用CVD装置メンテナンスサポート開始
2003年7月
JSENA(日本半導体エンジニアリングネットワーク協会)設立と同時に、正会員に加入
2004年3月
液晶パネル用塗布装置のセットアップ作業請負
2004年8月
特殊高圧バルブの高圧GAS使用認定を代理取得(KHK:高圧ガス保安協会による、個別バルブ認定取得)を開始
2005年5月
半導体製造装置メーカー(ドライETCH)へのエンジニア派遣開始
2005年8月
N2(窒素ガス)発生装置のメンテナンスサポート開始
2006年7月
半導体製造装置メーカー(イオン注入機)へのエンジニア派遣開始
2006年12月
横浜市港北区に横浜事務所を開設
2007年5月
半導体製造装置メーカー(CVD)へのエンジニア派遣開始
2007年7月
液晶パネル(LCD2世代)製造ライン移設(日本→中国)プロジェクト参加
2007年7月
MEMS製造ラインその他移設(日本国内)プロジェクト参加
2007年12月
実装工程用エクセル社製N2リフロー炉(ベーター機)設計、製作開始
2008年7月
大型液晶基板用周辺露光機サポート開始
2008年12月
有機EL用蒸着装置サービスサポート開始
2009年2月
有機EL研究ライン移設(日本→台湾)プロジェクト参加
2010年10月
半導体前工程メーカー工場より、バッチ式ウエハー洗浄装置リファブ及び立上げ、メンテナンスサポート開始
2011年5月
実装工程用製造装置リフロー炉(エクセル社製)のサービスサポート業務すべてを買収し、正規メーカーとしてメンテナンスサポート開始
2011年7月
国立大学にて次世代露光装置向け研究機サポート開始
2012年8月
資本金を2000万円に増資
2012年9月
車載向けパワーデバイス半導体用スパッタリング装置開発プロジェクト参加
2013年4月
Sicウエハー用スパッタリング装置開発プロジェクト参加
2013年9月
台湾DCI社とSEZ関連サービスサポート業務提携を締結
2013年10月
一般社団法人 日本電子デバイス産業協会(略称:NEDIA)に加盟
2015年10月
三重県四日市市に四日市事務所を開設

バナースペース

延命化ビジネス:サービスサポート例

DNS社製洗浄装置F-WETPDF
(FS820L,FS821,FC820,FC821,FC3000,
FC3100.SS3000,SU3000など)リファブ、移設、改造対応

SEMITOOL社製洗浄装置PDF
(DSST,SST,SRDなど)リファブ、移設、改造対応

AKT社製PECVD装置(液晶基板)
(AKT1600,AKT3500,AKT5500など)リファブ、移設、改造対応

ULVAC社製スパッタ装置
(CERAUS-Zi1000,CERAUS-Zx1000,
SH450,SME200,MCH4500 など)リファブ、移設、改造対応

エクセル社製リフロー炉
(ER1000CN,ER700C,ER500など)リファブ、移設、改造、保守

芝浦社製ドライETCH装置
(CDE-73,CDE-80など)リファブ、移設

プラズマシステム社製アッシャー
(DES212など)リファブ、移設

DNS社製ランプアニール装置
(LA820 LA830など)リファブ、移設

ULVAC社製イオン注入装置
(IDZ8001など)移設、改造

日新社製イオン注入装置
(NH-20SR,NH-20Sなど)移設、改造

SEZ社製洗浄装置PDF
(SEZ-223など)リファブ、移設、改造

その他各種装置(下記)移設、改造
・ULVAC社製液晶用スパッタ:SMD450
・ULVAC社製液晶用スパッタ:SMD950
・日本ASM社製横型炉:PXJ200
・バリアン社製インプラ:120XP
・MRC社製スパッタ:943
・ULVAC社製蒸着機:EX-550-C10
・CANON社製常圧CVD:APT4800
・アネルバ社製スパッタ:ILC-1051
・ノベラス社製CVD:Concept-1
・DNS社製コーターデベ:SKW-636
・日立製ドライETCH:M-308,M600など
・CANON社製アッシャー:MAS-8000
・TEL社製ETCH:T-8401,8500など
・ASM社製CVD:EAGLE-10
・TEL社製LP-CVD:α8
・カイジョー社製WET装置各種
・TEL社製ETCH:TE480,TE580,Unity